Varför tillsätts klor vanligtvis i den termiska oxideringsprocessen?
Utlösningstid:
2025-01-06
Vad är den termiska oxidationprocessen?
Den termiska oxidationprocessen används inom halvledartillverkning för att generera ett kiseloxid (SiO₂) lager på wafers yta. Den är indelad i våt oxidation och torr oxidation, och används främst i chipprocesser för att skapa isoleringslager som grindoxidlager, fältoxidlager, STI-isoleringslager eller skyddande passiveringslager.
Vad är DCE?
DCE hänvisar till trans-1,2-dikloretylén, en klorerad organisk förening med den kemiska formeln C2H4Cl2, som är ämnet som tillhandahåller klor i den termiska oxidationens klorineringsprocess.
Förutom DCE kan tidiga ämnen som klorgas, triklorättiksyra (TCE), 1,1,1-trikloretan (TCA) och HCl också användas som klorineringsämnen. TCE är dock en cancerogen och används inte längre, och TCA kan skada ozonskiktet, så HCl och DCE används mer vanligt som klorineringsämnen.
Vad är klorens roll i den termiska oxidationprocessen?
1. Öka oxidationshastigheten, vilket kan öka oxidationshastigheten med 10% till 15%.
2. Passivera mobila joner, särskilt Na+ och K+. Natrium- och kaliumjoner rör sig till kiselwafers yta under påverkan av ett elektriskt fält, vilket påverkar elektriska egenskaper och leder till enhetsinstabilitet. Klorinering kan fixera mobila joner och förhindra deras rörelse.
3. Neutralisera laddningar vid Si-SiO2-gränssnittet, vilket minskar defekter i oxidlagret.
Innehållet är hämtat från internet. Om det finns några problem, vänligen kontakta oss för borttagning.
Nästa artikel
Fler nyheter
I början av det nya året är allt nytt och förnyat. Peking-Tianjin-teknologidalen tar sig an utvecklingen med en framåtriktad inställning – «starten är ett spurt» – och blåser i kämpetakt för högkvalitativ utveckling. En rad viktiga projekt griper tag i vårens ljus och framskrider med full fart, genom att med konkreta insatser och resultat genomföra stadens «tio åtgärder» för högkvalitativ utveckling samt distriktskommitténs arbetslinje «3+1+1», och bidrar aktivt till distriktets utveckling.
Norska kundkommunikationsbesök
Tianjin Feierde Metal Products Co., Ltd. välkomnade en grupp framstående gäster från fjärran - ett kundteam från Norge. Detta utbytesbesök fördjupar och konsoliderar inte bara det långsiktiga samarbetet mellan parterna utan fungerar också som en värdefull möjlighet att främja kulturell integration och utvidga internationella perspektiv.
Varför tillsätts klor vanligtvis i den termiska oxideringsprocessen?
Vad är den termiska oxidationsprocessen? Den termiska oxidationsprocessen används inom halvledartillverkning för att generera ett kiseloxid (SiO₂) lager på ytan av skivor. Den är indelad i våt oxidation och torr oxidation, och används huvudsakligen i chiptillverkning för att skapa isoleringslager som grindoxidlager, fältoxidlager, STI-isoleringslager eller skyddande passiveringslager.